透明OLEd的制造工艺和步骤有哪些?(透明OLEd的五个制备方法解析)

2023-09-15 浏览量:310

导语:

透明有机发光二极管(transparent organic light-emitting diode,TOLED)是一种视觉效果良好且高透射率的显示技术。它在透明基板上制造,适用于各种应用,如显示器、照明等。本文将介绍透明OLEd的制备工艺和步骤,共包括五个主要方法。

一、热升华法

(1)研磨透明导电物质

通过机械方法将透明导电物质研磨成微细颗粒。

(2)涂布并回火

将研磨颗粒的导电物质涂布在透明基底上,然后通过回火过程来去除有机颗粒和杂质。

(3)有机导电聚合物沉降法

在透明基底上沉积导电聚合物光纤,通过补偿结构来改变光纤纹理和导电性。

【图解】

二、溶剂激光打印法

(1)变性溶剂激光刻蚀

透明OLEd的制造工艺和步骤有哪些?(透明OLEd的五个制备方法解析)

通过激光选择性刻蚀变性溶剂,形成透明的高分子过渡膜。

(2)涂布透明发光胶体

将透明发光胶体涂覆在内部以形成光电二极管结构。

(3)添加原型分子

在胶料中添加原型分子,提高发光片热残留物性能。

【图解】

三、半导体生长法

(1)表面引入介质材料

在透明基底上用介质材料引入氮杂质,形成致密透明介质层。

(2)热电倍增皮肤

使致密的透明介质经过电压刺激,形成具有导电性能的生长层。

透明OLEd的制造工艺和步骤有哪些?(透明OLEd的五个制备方法解析)

(3)化学气相沉积

在生长层上使用化学气相沉积(CVD)技术,将需要的材料沉积下来,形成LED组件。

【图解】

四、柔性补偿技术

(1)保护铸件

先通过透明基底制备发光材料,然后使用塑料补偿层保护铸件。

(2)装配柔性电路

将基底上的电学原件装配到柔性电路上,形成灵活的电路结构。

(3)补偿透明具属性

将补偿透明层聚合到发光材料上,增加其光翳和透明度。

【图解】

透明OLEd的制造工艺和步骤有哪些?(透明OLEd的五个制备方法解析)

五、压电材料控制法

(1)划定控制面

在透明基底上通过蒸镀法或溶液法划定控制面,提高介电性能。

(2)增加压电薄膜

在带有压电控制层的介电材料上增加压电薄膜,调整施加的电压。

(3)神经网络模拟法

通过工程手段提高器件压电薄膜电路性能,实现透明OLEd的调控。

【图解】

总结:

透明OLEd制作可以通过热升华法、溶剂激光打印法、半导体生长法、柔性补偿技术和压电材料控制法等五个方法完成。每种制备方法都有其特定的工艺和步骤,能够在材料选择、层厚控制和电路组件等方面满足不同应用的需求。透明OLEd技术的不断进步将推动显示技术的发展,并带来更多创新的应用领域。



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